Kammer / 1300° C
- Temperatur (°C): 1300
Einsatzgebiet
Erhitzer der in der Halbleiterindustrie
eingesetzten Diffusionsöfen
Betriebstemperatur bis 1300 °C
Beschreibung
Bei der Entwicklung und Herstellung wird dieser auf die Anwendungen der Wärmebehandlungsanlagen
der Kunden speziell zugeschnitten